GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定 现行

标准号：GB/T 30701-2014
中文标准名称：表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
英文标准名称：Surface chemical analysis―Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
标准状态：现行,发布于2014-03-27; 实施于2014-12-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2014-03-27
实施日期：2014-12-01
中国标准分类号：71.040.40
国际标准分类号：71.040.40
归口单位：全国微束分析标准化技术委员会
执行单位：全国微束分析标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：中国计量科学研究院
采标情况：本标准等同采用ISO国际标准：ISO 17331:2004。
采标中文名称:表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定。
相近标准：20110879-T-469 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定; 20192091-T-469 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染; 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染; 表面化学分析 水的全反射X射线荧光光谱分析; 半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法; YS/T 703-2014 石灰石化学分析方法 元素含量的测定 X射线荧光光谱法; GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法; GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法; 20120277-T-469 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法; 20070862-T-469 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法