GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 现行

标准号：GB/T 29658-2013
中文标准名称：电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
英文标准名称：High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
标准状态：现行,发布于2013-09-06; 实施于2014-05-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2013-09-06
实施日期：2014-05-01
中国标准分类号：77.120.10
国际标准分类号：77.120.10
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
执行单位：全国有色金属标准化技术委员会
主管部门：中国有色金属工业协会
起草单位：有研亿金新材料股份有限公司;新疆众和股份有限公司;宁波江丰电子材料有限公司
相近标准：20110426-T-610 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材; YS/T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材; YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材; YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材; YS/T 1053-2015 电子薄膜用高纯钴靶材; YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南; YS/T 1357-2020 磁记录用铬钽钛合金溅射靶材; YS/T 1358-2020 磁记录用铁钴钽合金溅射靶材; YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶; YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶