GB/T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法 现行

标准号：GB/T 29056-2012
中文标准名称：硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法
英文标准名称：Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron，aluminium，phosphorus，vanadium，chrome，manganese，iron，cobalt，nickel，copper，molybdenum，arsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method
标准状态：现行,发布于2012-12-31; 实施于2013-10-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2012-12-31
实施日期：2013-10-01
中国标准分类号：31-030
国际标准分类号：31-030
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：南京中锗科技股份有限公司;南京大学国家863计划新材料MO源研究开发中心;南京大学现代分析中心
相近标准：20081125-T-469 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法; YS/T 742-2010 氧化镓化学分析方法 杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法; YS/T 473-2015 工业镓化学分析方法 杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法; YS/T 473-2005 工业镓化学分析方法　杂质元素的测定　电感耦合等离子体质谱法; YS/T 896-2013 高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法; YS/T 898-2013 高纯钽化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法; YS/T 892-2013 高纯钛化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法; YS/T 474-2005 高纯镓化学分析方法　痕量元素的测定　电感耦合等离子体质谱法; YS/T 870-2020 纯铝化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法; YS/T 870-2013 高纯铝化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法