GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则 现行

标准号：GB/T 17866-1999
中文标准名称：掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则
英文标准名称：Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems
标准状态：现行,发布于1999-09-13; 实施于2000-06-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：1999-09-13
实施日期：2000-06-01
中国标准分类号：31.200
国际标准分类号：31.200
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：中国科学院微电子中心
采标情况：本标准等同采用其他国际标准：SEMI P23:1993。
采标中文名称:。
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