20190796-T-469 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法 正在批准

标准号：20190796-T-469
中文标准名称：硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
英文标准名称：Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
标准状态：正在批准
标准类型：国标计划
发布日期：1999/12/31 12:00:00
实施日期：1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号：山东有研半导体材料有限公司
国际标准分类号：77.040
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：有研半导体材料有限公司
起草人：徐继平
相近标准：  硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法;GB/T 33051-2016  光学功能薄膜 表面硬化薄膜 硬化层厚度测定方法;
标准制修订：制订