半导体水基清洁剂首要用于清洁外表沾污有白腊、油脂和油脂类高分子化合物以及外表沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器材和中、小规模集成电路中能够彻底替代传统半导体清洁技术中运用的清洁液。百检网对其做了北京剂类分析
1一、商品用处
半导体水基清洁剂首要用于清洁外表沾污有白腊、油脂和油脂类高分子化合物以及外表沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器材和中、小规模集成电路中能够彻底替代传统半导体清洁技术中运用的清洁液。
二、商品特色
该清洁剂清洁作用相当于或略优于传统清洁技术，本钱却大大下降，只要传统清洁技术本钱的10~30%，并且无毒无腐蚀性、对人体无损害、对环境无污染，经济效益明显。
三、运用技术
制造清洁液时，将去离子水加热到40-60℃，但不要超越60℃。或许用室温去离子水制造亦可。然后按下列体积比进行制造。水基清洁剂：去离子水=1：19将制造好的水基清洁剂倒入石英杯中,清洁液应浸没过硅片或晶体为宜,然后将石英杯置于超声波清洁设备中（槽中应加适当的去离子水）进行超声波清洁5分钟左右,倒掉清洁液,再用热去离子水冲刷5分钟左右,以冲净为宜。
四、注意事项
本品呈碱性，若不慎将本品溅到肌肤上应立即用清水冲刷，严重者应及时就医。
五、包装贮存
塑料桶包装，能够依照客户请求。贮存于阴凉、通风仓库。
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