多功能镀膜系统

服务领域： 技术指标： "*限真空度：≤6.67x10-5 Pa (经烘烤除气后，分子泵单独抽气)； 系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S； 系统从大气开始抽气，30分钟可达到6.6x10-4 Pa； 停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa； 工作真空度：13-1300Pa； 系统主要由真空反应室、上盖组件、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成，采用喷淋头在下，样品台在上成膜方式； " 生产厂商： 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 仪器国别： 启用时间： 2013-04-12 仪器认证： 无 安放地点： 材料学院8007 主要用途： 样品测试、分析检测 主要附件及功能： 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜，可镀金属、合金化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其它化学反应膜等