标准简介
本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。英文名称：Gas for electronic industry—Silane
标准状态：作废
替代情况：替代GB/T 15909-1995;被GB/T 15909-2017代替
中标分类：化工>>其他化工产品>>G86工业气体与化学气体
ICS分类：化工技术>>化工产品>>71.100.20工业气体
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-05-01
作废日期：2017-12-01
出版日期：2010-05-01
页数：12页
前言
本标准代替GB/T15909-1995《电子工业用气体 硅烷》。本标准与GB/T15909-1995相比主要变化如下:---修改规范性引用文件(GB/T15909-1995的第2章,本版的第2章);---修改技术指标内容:增加一类产品纯度和杂质含量,用Cl- 表示氯化物总量(GB/T15909-1995的3.1,本版的3.1);---修改电性能规格(GB/T15909-1995的3.2,本版的3.3);---增加硅烷的采样安全要求(见4.1.2);---增加对硅烷尾气处理的要求(见4.3);---修改一氧化碳、二氧化碳、氧和氮含量的测定(GB/T15909-1995的4.2、4.6,本版的4.4);---修改测定氯化物含量所用试剂和溶液的内容(GB/T15909-1995的4.3.4,本版的4.5.4);---修改测定氯化物含量结果处理公式(GB/T15909-1995的4.3.6,本版的4.5.6);---增加其他方法测定氯化物含量(见4.5.7);---修改烃(C1~C3)含量的测定(GB/T15909-1995的4.4,本版的4.6);---增加其他方法测定氢含量(见4.7.6);---增加其他方法测定水含量(见4.8);---增加微量甲硅醚,乙硅烷和甲基硅烷含量的测定(见4.9);---增加金属离子含量的测定(见4.10);---修改标志、包装、贮运及安全(GB/T15909-1995的第5章,本版的第5章)。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会归口。本标准起草单位:浙江大学材化学院半导体材料研究所、西南化工研究设计院。本标准主要起草人:余京松、周鹏云。本标准所代替标准的历次版本发布情况为:---GB/T15909-1995。
