标准简介
本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法(气相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。注:可采用石墨炉原子吸收光谱法或电感耦合等离子体质谱法代替全反射X 射线荧光光谱法来测定所收集的元素。本标准适用于原子表面密度介于6×109atoms/cm2~5×1011atoms/cm2 范围的铁和/或镍。英文名称：Surface chemical analysis—Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence(TXRF) spectroscopy
标准状态：现行
中标分类：化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法
ICS分类：化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2014-06-09
实施日期：2014-12-01
出版日期：2014-12-01
页数：24页
前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准使用翻译法等同采用ISO17331:2004《表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定》。本标准纳入了ISO17331:2004/Amd.1:2010的修正内容,这些修正内容涉及的条款已通过在其外侧页边空白位置的垂直双线(‖)进行了标示。本标准由全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38)提出并归口。本标准起草单位:中国计量科学研究院。本标准主要起草人:王海、宋小平、王梅玲、高思田、冯流星。
