标准简介
本标准规定了硅片边缘轮廓（包含切口）的检验方法。本标准适用于检验倒角硅片的边缘轮廓（包含切口），砷化镓等其他材料晶片边缘轮廓的检验可参照本标准执行。英文名称：Test methods for edge contour of silicon wafers
标准状态：现行
替代情况：替代YS/T 26-1992
中标分类：冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法
ICS分类：冶金>>77.040金属材料试验
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2016-07-11
实施日期：2017-01-01
出版日期：2018-08-01
页数：12页
前言
金属物理性能试验方法相关标准
.png)
