标准简介
本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱（ICP-AES）法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光（CMP）中抛光液用的各种硅溶胶。英文名称：Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
标准状态：现行
中标分类：医药、卫生、劳动保护>>医药>>C14解热镇痛、麻醉与中枢神经系统用药
ICS分类：化工技术>>71.040分析化学
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2012-12-28
实施日期：2013-06-01
出版日期：2013-06-01
页数：8页
前言
解热镇痛、麻醉与中枢神经系统用药相关标准
