磁控溅射镀膜机

主要技术指标：

溅射室：采用SUS304不锈钢，大小为ID550 x H600mm，结构为直立圆筒形，备有前后开门和一套法兰接口，表面喷沙处理，溅射室外缠Φ8mm水冷管供冷却用，真空室内设防护板。系统泄漏率小于1.3 x 10-10 pa.1/s，真空度可达5 x 10-5pa. 样品台：样品尺寸*大为Φ4英寸，可固定各种不规则的样品。样品采用石英灯加热，*高温度可达到800度，石英灯后部备有水冷机构，样品自传由马达驱动，速度在0.825～25rpm范围内可调，样品台可在360度范围内手动公转，来调整样品与3个靶的位置关系，附有位置显示，样品台有自动挡板。 靶：在溅射室地面法兰上安装三个Φ4英寸水冷永磁靶，永磁靶RF、DC兼容，靶材有挡板并在各个靶之间设有隔离板以防止相互污染。靶与样品之间的距离在100～300mm范围内可连续手调，附有位移显示，距离调整需在大气状态下并需同时调整挡板位置。 电源：配有一套频率为13.56MHz功率1000W的射频电源，带自动匹配控制器，匹配器上有3个输出接口通过手动切换分别供三个永磁靶使用。将来可增射频或直流电源。 气路：采用三台气体质量流量计来分别控制氩气、氮气和氧气，氩气*大流量为100SCCM，氮气和氧气*大流量为50SCCM，另外配有一套氮气泄漏气路，各气路分别配有截止阀，气路均采用不锈钢管路及附件组成。 真空获得及能量 （1）泵抽系统：采用磁悬浮式分子泵和机械泵，分子泵抽速为1080L/S，机械泵抽速为537L/M，在真空室和分子泵之间装有可调节流量的阀门，阀门采用马达控制。机械泵与真空室和分子泵之间有截止阀、并采用不锈钢管和波纹管等连接。 （2）真空测量系统：备有一台进口的数显复合真空计，可测范围为10５～10-7Pa，另配有一台工作用的薄膜电容式真空计，可测范围为11～1 x 10-3pa,两者有一台显示器切换表示，另外还有一个大气压传感器。 电控系统：由PLC、10英寸触摸屏、加热电源、射频电源、电机和泵阀控制电源、接触器、电缆等组成并安装在控制电柜和台架内，整机采用手动自动联合控制。 附件：台架由型钢焊接而成并可指定颜色喷塑处理，主机安装在台架上，台架内装有水路、气路和电路，并配备各种规格的垫圈、螺钉和螺母等。

主要功能：

可进行有高真空要求的金属、石英类镀膜。