光刻机

百检网 2021-11-11

服务领域：主要用于芯片，LED，LCD, MEMS 等。技术指标： 1.曝光面积：100 mm×100mm（可升级为150 mm×150mm） 2.分辨力：1.2mm（胶厚2mm的正胶） 3.对准精度：±3mm（双面，片厚0.8mm），±0.8mm（单面） 4.掩模尺寸：2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸 5.样片尺寸：直径f30mm--f100mm（f30mm--f150mm）厚度0.1mm--3mm(双面)，0.1mm--6mm(单面) 生产厂商：中国科学院光电技术研究所仪器国别：启用时间： 2013-04-01 仪器认证：厂家合格证安放地点：主要用途：光刻机主要附件及功能：

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