标准简介
本标准规定了应用扫描表面检查系统(SSIS)对硅抛光片表面颗粒进行测试、计数和报告的程序。本标准适用于硅抛光片，也可适用于硅外延片或其他镜面抛光片(如化合物抛光片)。本标准也适用于观测硅抛光片表面的划痕、桔皮、凹坑、波纹等缺陷，但这些缺陷的检测、分类依赖于设备的功能，并与检测时的初始设置有关。英文名称：Test method of particles on silicon wafer surfaces
标准状态：作废
替代情况：被GB/T 19921-2018代替
中标分类：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：冶金>>金属材料试验>>77.040.01金属材料试验综合
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2005-09-19
实施日期：2006-04-01
作废日期：2019-07-01
出版日期：2005-12-16
页数：16开， 页数：10， 字数：16千字
前言
半金属及半导体材料分析方法相关标准
