标准简介
本标准规定了在俄歇电子能谱（AES）和X射线光电子能谱（XPS）中使用惰性气体离子以保证溅射深度剖析具有好的深度分辨率以及*佳表面清洁效果而采取的离子束对准方法。这些方法分为两类：一类通过法拉第杯测量离子束流，另一类通过成像方法。法拉第杯方法也规定了离子束束流密度和束流分布的测量。这些方法不包括深度分辨率的优化。 这些方法均适用于束斑直径小于1 mm的离子枪。英文名称：Surface chemical analysis—Depth profiling—Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS
标准状态：现行
中标分类：化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法
ICS分类：化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2017-09-29
实施日期：2018-08-01
出版日期：2017-10-01
页数：20页
前言
基础标准与通用方法相关标准
