标准简介
本标准规定了集成电路器件用镍钒合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同或订货单内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类镍钒合金溅射靶材。英文名称：Sputtering nickel vanadium alloy target used in integrated circuit device
标准状态：现行
中标分类：冶金>>有色金属及其合金产品>>H62重金属及其合金
ICS分类：冶金>>有色金属产品>>77.150.40镍和铬产品
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
出版日期：2014-03-01
页数：20页
前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准由全国有色金属标准化技术委员(SAC/TC243)归口。本标准负责起草单位:有研亿金新材料股份有限公司。本标准参加起草单位:北京有色金属研究总院、宁波江丰电子材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所。本标准主要起草人:董亭义、何金江、刘红宾、张涛、姚力军、王学泽、向磊、徐学礼、朱晓光、丁照崇、吕超、雷继峰、熊晓东、张殿凯、李娜。
