GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶 现行

标准号：GB/T 34649-2017
中文标准名称：磁控溅射用钌靶
英文标准名称：Magnetron sputtering ruthenium target
标准状态：现行,发布于2017-09-29; 实施于2018-04-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2017-09-29
实施日期：2018-04-01
中国标准分类号：77.150.99
国际标准分类号：77.150.99
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
执行单位：全国有色金属标准化技术委员会
主管部门：中国有色金属工业协会
起草单位：有研亿金新材料有限公司;有色金属技术经济研究院
相近标准：20140932-T-610 磁控溅射用钌靶; SJ/T 10478-1994 磁控溅射设备通用技术条件; YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶; YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶; JB/T 8945-2010 真空溅射镀膜设备; YS/T 1024-2015 溅射用钽靶材; JB/T 8945-1999 真空溅射镀膜设备; GB/T 12852-2001 磁控管总规范; JB/T 4081-2011 真空技术 溅射离子泵; JB/T 4082-1991 溅射离子泵技术条件