GB/T 16524-1996 光掩模对准标记规范 现行

标准号：GB/T 16524-1996
中文标准名称：光掩模对准标记规范
英文标准名称：Specification for registration marks for photomasks
标准状态：现行,发布于1996-09-09; 实施于1997-05-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：1996-09-09
实施日期：1997-05-01
中国标准分类号：31.200
国际标准分类号：31.200
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：中国科学院微电子中心
采标情况：本标准等效采用其他国际标准：SEMI P6:1988。
采标中文名称:。
相近标准：SJ/T 10274-1991 掩模对准曝光机测试方法; 20154011-T-469 专用衰减式移相掩模版及掩模基板特性规范; 专用衰减式移相掩模版及掩模基板特性规范; GB/T 15871-1995 硬面光掩模基板; GB/T 16523-1996 圆形石英玻璃光掩模基板规范; 20120286-T-469 平板显示器掩模基板规范; GB/T 34178-2017 光掩模石英玻璃基板; GB/T 15870-1995 硬面光掩模用铬薄膜; 20141709-T-609 光掩模石英玻璃基板; SJ/T 11516-2015 薄膜晶体管（TFT）用掩模版规范