ASTM F2113-2001e1 薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南

百检网 2021-07-15

标准号：ASTM F2113-2001e1
中文标准名称：薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南
英文标准名称：Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
标准类型：L14
发布日期：1999/12/31 12:00:00
实施日期：1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号：L14
国际标准分类号：29.045 (Semiconducting materials)

百检能给您带来哪些改变？

1、检测行业全覆盖，满足不同的检测；

2、实验室全覆盖，就近分配本地化检测；

3、工程师一对一服务，让检测更精准；

4、免费初检，初检不收取检测费用；

5、自助下单快递免费上门取样；

6、周期短，费用低，服务周到；

7、拥有CMA、CNAS、CAL等权威资质；

8、检测报告权威有效、中国通用；

客户案例展示

上一篇《BS EN 60534-6-2-2001 工业过程控制阀.定位器装到控制阀的安装细则.旋转传动装置上安装的定位器》

下一篇《DIN EN 12445-2001 工业用、商用和车库用门.动力操纵门的使用安全.试验方法》

版权与免责声明

①本网注名来源于“互联网”的所有作品，版权归原作者或者来源机构所有,如果有涉及作品内容、版权等问题，请在作品发表之日起一个月内与本网联系，联系邮箱service@baijiantest.com，否则视为默认百检网有权进行转载。

②本网注名来源于“百检网”的所有作品，版权归百检网所有，未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。想要转载本网作品，请联系:service@baijiantest.com。已获本网授权的作品，应在授权范围内使用，并注明"来源：百检网"。违者本网将追究相关法律责任。

③本网所载作品仅代表作者独立观点，不代表百检立场，用户需作出独立判断，如有异议或投诉，请联系service@baijiantest.com