ANSI/TIA/EIA 526-4A-1997 光学直视天线辐射图测绘方法

百检网 2021-07-16

标准号：ANSI/TIA/EIA 526-4A-1997
中文标准名称：光学直视天线辐射图测绘方法
英文标准名称：Optical Eye Pattern Measurement Procedure
标准类型：M33
发布日期：1999/12/31 12:00:00
实施日期：1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号：M33
国际标准分类号：33.180.01
适用范围：This procedure describes a method of measuring the repetitive temporal characteristics of a two-level, intensity-modulated optical waveform (eye pattern) at an optical interface point. From the measured eye pattern, waveform parameters such as rise time, fall time, overshoot, and extinction ratio can be extracted. Alternatively, the waveform can be tested for compliance with a predetermined waveform mask.

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