标准号:ASTM F1366-1992(1997)e1
中文标准名称:用次级离子质谱仪测量重掺杂硅基底中氧含量的测试方法
英文标准名称:Standard Test Method for Measuring Oxygen Concentration in Heavily Doped Silicon Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry
标准类型:H82
发布日期:1999/12/31 12:00:00
实施日期:1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号:H82