标准号:ASTM F1239-1994
中文标准名称:通过测量晶隙氧还原表征硅片氧沉淀的标准试验方法
英文标准名称:Standard Test Methods for Oxygen Precipitation Characterization of Silicon Wafers by Measurement of Interstitial Oxygen Reduction
标准类型:H82
发布日期:1999/12/31 12:00:00
实施日期:1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号:H82
国际标准分类号:29.045 (Semiconducting materials)