20065628-T-469 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法 已发布

标准号：20065628-T-469
中文标准名称：硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
英文标准名称：Method for measuring crystallographic orientation of flats on single-crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques
标准状态：已发布
标准类型：国标计划
发布日期：1999/12/31 12:00:00
实施日期：1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号：杜娟
国际标准分类号：29.045
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：有研半导体材料股份有限公司
起草人：卢立延
相近标准：GB/T 13388-2009  硅片参考面结晶学取向X射线测试方法;GB/T 13388-1992  硅片参考面结晶学取向Ｘ射
标准制修订：修订