GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

标准号：GB/T 24578-2009
中文标准名称：硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
英文标准名称：Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
标准类型：H80
发布日期：2009/10/30 12:00:00
实施日期：2010/6/1 12:00:00
中国标准分类号：H80
国际标准分类号：29.045
引用标准：GB/T 2828.1-2003;GB/T 14264-1993;SEMI MF 1526
适用范围：本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法。本标准适用于N型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片，尤其适用于清洗后硅片自然氧化层，或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。本方法适用于测量面密度在(10