DIN 50453-2-1990 半导体工艺材料的检验.蚀刻混合剂浸蚀率的测定.第2部分:二氧化硅涂层.光学法

百检网 2021-08-02

标准号：DIN 50453-2-1990
中文标准名称：半导体工艺材料的检验.蚀刻混合剂浸蚀率的测定.第2部分:二氧化硅涂层.光学法
英文标准名称：Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method
标准类型：H82
发布日期：1999/12/31 12:00:00
实施日期：1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号：H82
适用范围：The standard defines the test method for the determination of etch rates of etch mixtures on siliciumdioxid coatings.

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