ASTM F1894-1998 定量分析硅化钨半导体加工膜组分和厚度的标准试验方法

百检网 2021-08-04

标准号：ASTM F1894-1998
中文标准名称：定量分析硅化钨半导体加工膜组分和厚度的标准试验方法
英文标准名称：Test Method for Quantifying Tungsten Silicide Semiconductor Process Films for Composition and Thickness
标准类型：H82
发布日期：1999/12/31 12:00:00
实施日期：1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号：H82
国际标准分类号：29.045 (Semiconducting materials)

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