详细信息
主要技术指标：
该设备通过将硅片放置到工艺腔内，使用纯水和多种不同的化学药品冲洗硅片背面，利用化学反应来刻蚀硅片背面所附着的各种薄膜。
主要功能：
该设备可以对硅片进行处理，来去除硅片背面的各种薄膜，防止交叉沾污
服务信息
服务内容：
对硅片进行处理，来去除硅片背面的各种薄膜，防止交叉沾污
收费标准：
面议
用户须知：
无
