GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法 现行

标准号：GB/T 24580-2009
中文标准名称：重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
英文标准名称：Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
标准状态：现行,发布于2009-10-30; 实施于2010-06-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-06-01
中国标准分类号：29.045
国际标准分类号：29.045
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：信息产业部专用材料质量监督检验中心;中国电子科技集团公司第四十六研究所
采标情况：本标准修改采用其他国际标准：SEMI MF 1528-1104。
采标中文名称:用二次离子质谱法测量重搀杂N型硅衬底中的硼污染的方法。
相近标准：20070864-T-469 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法; SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法; GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法; 20070859-T-469 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法; SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法; 20201513-T-609 水泥氯离子固化率检测方法; 水泥氯离子固化率检测方法; 20192021-T-609 水泥胶砂氯离子扩散系数检测方法; 水泥胶砂氯离子扩散系数检测方法; JB/T 9218-2015 无损检测 渗透检测方法