GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 现行

标准号：GB/T 20176-2006
中文标准名称：表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
英文标准名称：Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
标准状态：现行,发布于2006-03-27; 实施于2006-11-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2006-03-27
实施日期：2006-11-01
中国标准分类号：71.040.40
国际标准分类号：71.040.40
归口单位：全国微束分析标准化技术委员会
执行单位：全国微束分析标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：清华大学电子工程系
采标情况：本标准等同采用ISO国际标准：ISO 14237:2000。
采标中文名称:表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度。
相近标准：20010510-T-469 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度; 20193156-T-469 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法; 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法; 20193157-T-469 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准; GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法; 20121404-T-469 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法; 20071058-T-469 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法; GB/T 22572-2008 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法; GB/T 25186-2010 表面化学分析 二次离子质谱 - 由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子; 20075695-T-469 表面化学分析 二次离子质谱 - 由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子