标准号：GB/T 19922-2005
中文标准名称：硅片局部平整度非接触式标准测试方法
英文标准名称：Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
标准状态：现行
标准类型：国家标准
发布日期：2005/9/19 12:00:00
实施日期：2006/4/1 12:00:00
中国标准分类号：H17
国际标准分类号：77.040.01
归口单位：工业和信息化部（电子）
主管部门：工业和信息化部（电子）
起草单位：洛阳单晶硅有限责任公司
相近标准：20065631-T-469 硅片翘曲度非接触式测试方法;GB/T 6620-1995 硅片翘曲度非接触式测试方法;GB/T
GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法 现行
百检网 2021-07-29
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