GB/T 19921-2018 硅抛光片表面颗粒测试方法
Test method for particles on polished silicon wafer surfaces
标准 推荐性 现行标准《硅抛光片表面颗粒测试方法》由TC203(半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为标准化管理委员会。
GB/T 19921-2018主要起草单位
有研半导体材料有限公司 、上海合晶硅材料有限公司 、浙江金瑞泓科技股份有限公司 、南京国盛电子有限公司 、有色金属技术经济研究院 、天津市环欧半导体材料技术有限公司 。
GB/T 19921-2018主要起草人
孙燕 、刘卓 、冯泉林 、徐新华 、张海英 、骆红 、刘义 、杨素心 、张雪囡 。
GB/T 19921-2018相近标准(计划)
20151791-T-469 硅抛光片表面颗粒测试方法
20000544-T-610 硅抛光片表面质量(颗粒)检测方法
YS/T 25-1992 硅抛光片表面清洗方法
SJ/T 11504-2015 碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法
GB/T 12964-2018 硅单晶抛光片
20151794-T-469 硅单晶抛光片 硅单晶抛光片
SJ/T 11503-2015 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法
GB/T 30858-2014 蓝宝石单晶衬底抛光片