等离子体化学气相淀积系统

百检网 2021-11-11

主要技术指标

反应室数量为双室，*限真空为2.0×10-5Pa（环境湿度≤55%），*大样品尺寸为φ300mm，淀积不均匀性为≤±5％（φ10吋范围内）≤±7％（φ12吋范围内）

主要功能/应用范围

本系统为计算机控制的双室PECVD系统，可制备SiO2、Si3N4、非晶硅、微晶硅等薄膜材料，两室间实现机械臂传输样品

服务内容

具体请跟机主老师联系

服务的典型成果

为校内外师生提供测试服务

对外开放共享规定

只提供送样测试服务

参考收费标准

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