标准简介
本标准规定了应用扫描表面检查系统对抛光片、外延片等镜面晶片表面的局部光散射体进行测试，对局部光散射体与延伸光散射体、散射光与反射光进行区分、识别和测试的方法。英文名称：Test method for particles on polished silicon wafer surfaces
标准状态：现行
替代情况：替代GB/T 19921-2005
中标分类：冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法
ICS分类：冶金>>77.040金属材料试验
发布部门：国家市场监督管理总局.
发布日期：2018-12-28
实施日期：2019-07-01
出版日期：2018-12-01
页数：32页
前言
金属物理性能试验方法相关标准
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