标准简介
本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。英文名称：Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
标准状态：现行
中标分类：冶金>>有色金属及其合金产品>>H68贵金属及其合金
ICS分类：冶金>>有色金属产品>>77.150.99其他有色金属产品
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
出版日期：2014-03-01
页数：8页
前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准参照了ASTMF2113-01(2011)《电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量的分析及报告标准指南》。本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。本标准起草单位:有研亿金新材料股份有限公司。本标准主要起草人:张涛、何金江、丁照崇、万小勇、徐建卫、廖赞、尚再艳、王欣平、熊晓东、吕保国。
