标准简介
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。英文名称：Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
标准状态：现行
中标分类：冶金>>有色金属及其合金产品>>H63稀有高熔点金属及其化合物
ICS分类：冶金>>有色金属产品>>77.150.99其他有色金属产品
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2009-12-04
实施日期：2010-06-01
出版日期：2010-06-01
页数：8页
前言
本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。本标准负责起草单位:利达光电股份有限公司。本标准主要起草人:李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。
