标准简介
本标准规定了高纯砷的分类和标记、要求、试验方法、检验规则、产品标识、包装、运输、贮存等。本标准适用于以工业砷为原料，经升华、氯化、精馏、氢还原等加工提纯后制成的纯度不小于99.999%、99.9999%、99.99999%的高纯砷。产品主要用于制造砷化镓等Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体、外延源以及半导体掺杂剂等。英文名称：High-purity arsenic
标准状态：现行
替代情况：替代YS/T 43-1992
中标分类：冶金>>半金属与半导体材料>>H81半金属
ICS分类：电气工程>>29.045半导体材料
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2011-12-20
实施日期：2012-07-01
出版日期：2012-07-01
页数：8页
前言
本标准代替YS/T43—1992《高纯砷》。本标准是对YS/T43—1992《高纯砷》的修订,本标准与YS/T43—1992相比,主要有如下变动:———产品分类中增加了一个牌号As-07,检测杂质包括镁、铬、镍、铜、锌、锑、铅、铋、钠、钾、铝、银、钙、铁等14个元素;———As-05牌号化学成分增加钠、钾、铋3个杂质元素,检测元素量由13个增加到16个;———As-06牌号化学成分因*谱法检出限的局限,取消硫、硒2个杂质元素,增加钠、钾、铋3个杂质元素,检测杂质元素由13个增加到14个;———修订了原标准试验方法。采用电感耦合等离子质谱法测定砷中金属杂质含量,As-05牌号硫、硒杂质仍保留原*谱法测定;———杂质含量的浓度单位采用国际上惯用的1×10-7%(ppbwt)进行表述;———产品包装、运输、贮存等规定作了部分调整和补充,并要求供方提供产品的安全技术说明书;———增加了订货合同内容。本标准由全国有色金属标准化技术委员会归口。本标准负责起草单位:峨嵋半导体材料厂、峨眉山嘉美高纯材料有限公司。本标准主要起草人:杨卫东、程高明、邹同贵、王飞、廖敏。本标准所代替标准的历次版本发布情况为:———YS/T43—1992。
.png)
