GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范 现行

标准号：GB/T 29844-2013
中文标准名称：用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
英文标准名称：Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
标准状态：现行,发布于2013-11-12; 实施于2014-04-15; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2013-11-12
实施日期：2014-04-15
中国标准分类号：31.030
国际标准分类号：31.030
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：上海华虹NEC电子有限公司
相近标准：20067104-T-469 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范; GB/T 16878-1997 用于集成电路制造技术的检测图形单元规范; 20153727-T-469 集成电路制造中套刻检测图形规范; 集成电路制造中套刻检测图形规范; GB/T 8976-1996 膜集成电路和混合膜集成电路总规范; SJ/T 10152-1991 集成电路主要工艺设备术语; GB/T 12842-1991 膜集成电路和混合膜集成电路术语; GB/T 9178-1988 集成电路术语; GB/T 16465-1996 膜集成电路和混合膜集成电路分规范(采用能力批准程序); GB/T 15138-1994 膜集成电路和混合集成电路外形尺寸