GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法 现行

标准号：GB/T 19444-2004
中文标准名称：硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法
英文标准名称：Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
标准状态：现行,发布于2004-02-05; 实施于2004-07-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2004-02-05
实施日期：2004-07-01
中国标准分类号：29.040
国际标准分类号：29.040
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：洛阳单晶硅有限责任公司
相近标准：SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法; GB/T 14143-1993 300～900μm硅片间隙氧含量红外吸收测量方法; SJ/T 10625-1995 锗单晶中间隙氧含量的红外吸收测量方法; GB/T 14144-2009 硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法; 20062373-T-469 硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法; GB/T 14144-1993 硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法; GB/T 1557-2006 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法; GB/T 1557-2018 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法; 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法; 20060512-T-610 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法