GB/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件 现行

标准号：GB/T 18682-2002
中文标准名称：物理气相沉积TiN薄膜技术条件
英文标准名称：Specifications of physical vapour deposition TiN films
标准状态：现行,发布于2002-03-10; 实施于2002-08-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2002-03-10
实施日期：2002-08-01
中国标准分类号：25.220.20
国际标准分类号：25.220.20
归口单位：全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会
执行单位：全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会
主管部门：中国机械工业联合会
起草单位：武汉材料保护研究所
相近标准：JB/T 6067-1992 气相防锈塑料薄膜技术条件; GB/T 31566-2015 金属覆盖层 物理气相沉积铝涂层 技术规范与检测方法; 20111087-T-604 金属覆盖层 物理气相沉积铝涂层 技术规范与检测方法; 20203665-T-604 金属覆盖层 钢铁上物理气相沉积镉涂层 技术规范与试验方法; 金属覆盖层 钢铁上物理气相沉积镉涂层 技术规范与试验方法; GB/T 30091-2013 薄膜键盘技术条件; 20078169-T-604 薄膜键盘技术条件; JB/T 8554-1997 气相沉积薄膜与基体附着力的划痕试验法; DB13/T 5137-2019 薄膜前处理材料技术条件; YY/T 0193-1994 医疗器械铝制件阳*氧化膜技术条件