标准号：GB/T 26070-2010
中文标准名称：化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
英文标准名称：Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method
标准类型：H17
发布日期：2011/1/10 12:00:00
实施日期：2011/10/1 12:00:00
中国标准分类号：H17
国际标准分类号：77.040.99
适用范围：本标准规定了Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体单晶抛光片亚表面损伤的测试方法。本标准适用于GaAs、InP(GaP、GaSb可参照进行)等化合物半导体单晶抛光片亚表面损伤的测量。
GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
百检网 2021-07-19
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