20192091-T-469 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染 已发布

标准号：20192091-T-469
中文标准名称：表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
英文标准名称：Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
标准状态：已发布
标准类型：国标计划
发布日期：1999/12/31 12:00:00
实施日期：1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号：华南理工大学
国际标准分类号：71.040.40
归口单位：全国微束分析标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：中国计量科学研究院
起草人：张艾蕊
相近标准：GB/T 40110-2021  表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染;  表面化学分析 全
标准制修订：制订