***(百检网)介绍传统光刻是利用光与化学物质的混合,在硅的微小面积上产生复杂的微米与纳米级图案。重分布层的聚合物薄膜作为此过程的一部分,沉积到硅芯片上,保护芯片免受机械因素与环境差异的影响,以减缓信号传输延迟,对器件的功效相当重要。
一种称为环氧硅氧烷聚酯树脂的新材料是一种薄膜,可快速干燥的新型聚合物,大幅提高电脑芯片封装与半导体制造的效率并降低成本,也使芯片纳米压印光刻术成为可能。与半导体工业领域通常所使用的现有材料相比,新材料具备多种优势,也能作为紫外线芯片纳米压印光刻术所使用的聚合物薄膜。新材料的吸水性比其他材料来得少,可充分附着在铜上还可使它较不易碎;另外,制造过程中需要的热少,固化温度低。将聚酰亚胺与苯丙环丁烯作为重分布层的聚合物,具有热稳定性、低吸水性、低热膨胀性等优点。新材料在固化温度与吸水性方面,可提供更显著的优势。