元器件制造工艺与缺陷

百检网 2021-10-28

全局缺陷：光刻对准误差、工艺参数随机起伏、线宽变化等；在成熟、可控性良好的工艺线上，可减少到*少，甚至几乎可以消除。

局域缺陷：氧化物针孔等点缺陷，不可完全消除，损失的成品率更高。

点缺陷：冗余物、丢失物、氧化物针孔、结泄漏

IC工艺：氧化、扩散、镀膜、光刻等

厚膜工艺：基板加工、制版、丝网印刷、烧结、激光调阻、分离元器件组装等

薄膜工艺：基板加工、制版、薄膜制备、光刻、电镀等

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