真空系统：TRP-36机械泵+FF160-620C分子泵；ZDF-5227数显复合真空计及金属规管；GD-J8手动充气阀； 电子束蒸发镀膜室：Φ450×500 mm空间立式全不锈钢结构；样品公转速度0~60RPM；样品尺寸Φ70；样品加热温度700℃±1℃；温度PID可编程控；真空室上盖电动升降； 电子束沉积薄膜制备系统：电动4点定位4工位电子束蒸发坩埚，每个坩埚容量大于20ml，功率*大10KW；设有气动蒸发源挡板一套；设有离子轰击电*及电源一套； 电子束沉积薄膜制备系统真空室配有2只Dg6手动气路截止阀，设有1路高精度质量流量控制器，流量0~50 SCCM； 多弧离子镀膜室：Φ450×500 mm空间立式全不锈钢结构；样品公转速度0~60RPM；样品尺寸Φ70；样品加热温度700℃±1℃；温度PID可编程控；真空室上盖电动升降； 多弧离子镀膜室与电子束蒸发镀膜室共用一套分子泵系统，各室与真空获得系统之间设有手动闸板阀。
用于电子束涂层/多弧离子镀涂层制备
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