主要功能:离子束溅射镀膜与清洗多功能平台是在真空环境中,利用离子轰击靶材表面,使溅射出的粒子沉积在基片上,进而获得大面积纳米至微米级厚度的均匀膜层。
主要技术指标:1. *限真空度:≤6.0×10-5 Pa (经烘烤除气后); 2. 系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S; 3. 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.0×10-4 Pa;
主要功能:离子束溅射镀膜与清洗多功能平台是在真空环境中,利用离子轰击靶材表面,使溅射出的粒子沉积在基片上,进而获得大面积纳米至微米级厚度的均匀膜层。
主要技术指标:1. *限真空度:≤6.0×10-5 Pa (经烘烤除气后); 2. 系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S; 3. 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.0×10-4 Pa;
1、检测行业全覆盖,满足不同的检测;
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