详细信息
1. 包含热阻式蒸发和电子束蒸发功能 2. *限真空≤6×10-5Pa;腔室从大气开始抽气,在≤40分钟内,其真空度≤6×10-4Pa;采用一台复合真空计测量真空度。 3. 镀膜过程中,衬底温度≤80℃ 4. Ø4英寸样品镀膜均匀度≤±5% 5. 全部操控均为电控并配置相应的互锁机构 6. 蒸发源与衬底间距260mm±40mm,精确可调 7. 样品转盘上可携挂1片4寸样片及其它小于4寸的小样片 8. 电子枪1套,其主要技术参数:一台6KW 电子枪;电子束偏转角270º;阳*电压有6KV和8KV两挡,面板切换;束流在0-750mA范围内可调;偏转电源:X方向扫描频率0-20Hz可调,Y方向扫描频率0-20Hz可调; 启动真空度:6.7×10-3Pa;枪电源高压灭弧自动复位。 9. 坩埚为四穴水冷铜坩埚,每个坩埚的尺寸为:20ml。可以电动换位。
多项蒸发镀膜技术的交叉结合,可以实现多种材料的高性能薄膜沉积。
服务信息
种材料的高性能薄膜沉积
600元/小时+300元/次工艺+材料费
参考学校共享相关规定