详细信息
主要技术指标：
衬底缠绕在收放卷筒上，收卷筒采用步进电机+精密行星减速器+磁流体密封组件带动转动，样品移动速度:5—10mm/min，连续可调、 自动控制。在衬底背面对衬底加热，加热炉为电阻式，样品加热温度：室温～200℃，加热控温采用自动温度控制器，加热面积140´100 mm2
主要功能：
本系统为在柔性衬底上连续镀膜的高真空磁控溅射设备，用于镀制单层膜。
服务信息
服务内容：
本系统为在柔性衬底上连续镀膜的高真空磁控溅射设备，用于镀制单层膜。
收费标准：
800
用户须知：
http://cmns.fudan.edu.cn/Data/View/226
