标准简介
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。英文名称：Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
标准状态：现行
中标分类：仪器、仪表>>光学仪器>>N33电子光学与其他物理光学仪器
ICS分类：化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析
发布部门：国家标准化管理委员.
发布日期：2006-03-27
实施日期：2006-11-01
出版日期：2006-11-01
页数：平装16开 页数：20, 字数：32千字
前言
电子光学与其他物理光学仪器相关标准
