GB/T 14143-1993 300？900 UM 硅片间隙氧含量红外吸收测量方法

百检网 2022-10-20

标准简介

本标准规定了用红外吸收法测定厚度为300~900μm的硅片间隙氧含量的方法。本标准适用于室温电阻率大于0.1Ω·cm的硅片间隙氧含量的测量。
英文名称：300～900μm Silicon slices－Measuring of interstitial oxygen content－Infrared absorption method
标准状态：作废
替代情况：被GB/T 1557-2006代替
中标分类：冶金>>金属理化性能试验方法>>H26金属无损检验方法
ICS分类：29.040.30
发布部门：国家技术监督局
发布日期：1993-02-06
实施日期：1993-10-01
作废日期：2006-11-01
页数：平装16开，页数：6，字数：9千字

前言

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