标准简介
本标准只涉及集成电路生产中所用的光刻技术及其关系密切的技术的聚集与焦深测量问题。由于设备技术多种多样，因而不可能提出这些参数的明确测量方法。本标准只提供基本准则。英文名称：Specification for measuring depth of focus and best focus
标准状态：现行
中标分类：电子元器件与信息技术>>微电路>>L56半导体集成电路
ICS分类：电子学>>31.200集成电路、微电子学
发布部门：国家质量技术监督局
发布日期：1999-09-01
实施日期：2000-06-01
出版日期：2004-08-22
页数：7页
前言
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